本文利用岛津GCMS-QP2020 NX气质联用仪结合液氮制冷型大气预浓缩仪，建立了半导体制造厂洁净室内117种有机污染物的测定方法。结果显示：在0.1~10.0 nmol/mol浓度范围内，各组分标准曲线线性良好，相关系数均在0.995以上。以浓度为0.5 nmol/mol的标气连续进样5次，各组分峰面积RSD均小于5%，精密度良好。该方法操作简单，定量数据准确可靠，可用于半导体制造厂洁净室内有机污染物的检测。

本文介绍了一个运用Xslicer SMX-6000微焦点X射线检查装置的X射线透视和CT 功能，对CPU进行的实例观察。针对CPU透视放大后金线绑定现象进行检测。

氮化硅作为一种重要的陶瓷材料，凭借其卓越的物理与化学特性，在广泛的工业制造及日常生活中占据着独一无二的地位。氮化硅粉末作为制造各类氮化硅制品的基础原料，其品质直接关乎最终产品的性能表现，其中粒度是衡量其质量的关键指标之一。本报告采用配备了多功能流通池的激光粒度分析仪SALD-2300，选用纯水作为分散媒介，对不同种类氮化硅粉末的粒度进行测定，此方法为科学评估氮化硅粉末的质量等级及优化生产流程提供了可靠的技术支撑。