半导体企业生产制造过程是一个高水耗过程，且纯水水质对产品品质有至关重要的影响。为确保出水水质符合要求，制备超纯水时需对重要环节的进出水进行监测，监测指标包含总有机碳(TOC)、导电度或水阻值等。通过实时监测掌握水质变化情况，尽早发现问题并采取措施，保证生产用水的品质需求。半导体企业生产废水由有机废水、含氟废水、研磨废水、酸碱废水等混合而成，水污染物包含悬浮物、有机污染物、氨氮等，成分复杂，主要监测指标为COD/TOC、氨氮、铜、PH等。此外，半导体企业生产过程中还会排放有机废气、酸性废气、碱性废气等，包含大量挥发性有机物(VOCs)。VOCs作为我国大气污染防治联防联控的重要污染物，需对进行监

本文介绍了一个运用SMX-225CT FPD 微焦点X射线CT系统对水笔笔尖的实例观察。先是对水笔笔尖进行透视扫描，清晰的观察到内部圆珠和内部的结构，再采用传统的CT扫描方式对水笔笔尖进行详细的扫描，可以清晰的观察出水笔笔尖内部的结构并进行尺寸测量。

本文利用GCMS-QP2020 NX气相色谱质谱联用仪建立了缬沙坦药品中NDMA、NDEA、NEIPA、NDIPA、NDBA含量的检测方法。在2~1000 ng/mL浓度范围内5种物质线性关系良好，线性相关系数均大于0.999。取浓度为5 ng/mL标准溶液连续进样6针，峰面积RSD%均小于5.5%。实际样品中检出了NEIPA与NDBA两种物质，三个浓度水平加标回收率为84.9~103.8 %。该方法为缬沙坦中5种N-亚硝胺的检测提供了参考。