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岛津光电子能谱技术表征Ni-NiS/C3N4复合光催化剂
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岛津光电子能谱技术表征Ni-NiS/C3N4复合光催化剂
2021.06.18
类型: 应用报告
浏览:145
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X射线光电子能谱(XPS)技术结合氩离子刻蚀技术可以有效对材料表面以及沿深度方向进行测试,以得到材料结构相关信息,不同的刻蚀模式的选择对结果有较大的影响。本文选用非贵金属Ni桥连NiS / g-C3N4复合材料,采用XPS技术对材料表面进行表征,结合团簇氩离子刻蚀技术对材料进行深度剖析,判断不同元素的化学状态信息。
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