目前欧盟REACH 法规（《关于化学品注册、评估、许可和限制制度》）中涉及到检测部分的是高关注物质（SVHC） 的检测。欧盟化学品管理署于2008 年10 月28 日正式生效第一份高关注物质清单。自从第一批SVHC 公布后，全球各大知名企业便开始高度关注，积极要求其供货合作伙伴提供产品中SVHC 物质的基本信息及具体含量，更有大客户直接将这些物质列入其产品中限制使用的物质清单中。 2010年1月至2011年6月，REACH法规逐步完善，欧盟化学品管理署依次正式公布SVHC第二批至第五批高关注物质清单。随着其中高度关注物质清单的逐步增加及颁布，意味着企业产品将面临着越来越多的挑战，企业需对高度关

本文参考GB/T 14849.5-2014《工业硅化学分析方法 第5部分:元素含量的测定 X 射线荧光光谱法》，利用岛津XRF-1800波长色散型X射线荧光光谱仪，采用粉末压片制样方法，测定多晶硅中杂质元素含量。利用工业硅标准样品建立相应工作曲线，各杂质元素标准曲线线性良好，平行测定10次，各杂质组分分析精度良好。方法适用于多晶硅中铁、铝、钙、锰、镍、钛、铜、磷、镁、铬、钒、钴含量的测定，满足多晶硅生产对杂质成分的检测需求。

根据反离子的不同，有效药物成分（Active Pharmaceutical Ingredients : API）的理化性质和药物动力学性质会发生变化，因此在药物开发阶段通过选择各种反离子，从而决定最适合的盐。在合成阶段，催化剂和离子等无机杂质的残留会影响产品的溶解性和稳定性，因此杂质分析非常重要。为了从合成的API 中去除杂质，通常使用HPLC 进行制备和纯化。使用醋酸、甲酸、三氟醋酸和盐作为添加物，使流动相的后处理操作简单。在肽的固相合成中，使用三氟醋酸对固相进行萃取，三氟醋酸则为主成分肽的反离子。多数情况下，会以醋酸根和氯离子置换盐后再使用。因此，有时这些离子会成为API 的反离子或杂质离