本文在惰性气氛中对带电ASSLiB的电极-电解质界面进行了扫描探针显微镜观察，发现界面处存在孔洞，并对负极活性材料的充电状态进行了评估。本测试有望帮助阐明电极-电解质界面的反应机制，解决ASSLiB的界面电阻问题。

近年来，MS成像被广泛应用于原研药研究、代谢研究以及其他各种领域。在使用MALDI电离法的MS成像中，除了在众多的基质种类中选择适合目标化合物检测的基质之外，研究所选择基质的涂覆方法也极其重要。喷涂法可有效地从组织中萃取，但存在成分渗出、基质晶体颗粒大、不均匀的问题。另一方面，升华法可实现基质晶体的微小、均匀化，但无法有效地从组织中萃取。因此，开发了升华法与喷涂法相结合的两步升华法（专利：6153139）和使升华的基质再结晶的升华后再结晶法等。在本文中，我们将介绍基质种类和涂覆方法的差异造成的晶体尺寸和形状差异的观察结果，以及证实两步升华法在MS成像中的优势的示例。

三元正极材料中，阳离子混排导致的无序会影响电池的性能。本文使用岛津X射线衍射仪测试了三元正极材料样品，使用GSAS软件完成了Rietveld精修，拟合结果良好，拟合优度χ2为1.675，通过精修得到Ni2+在Li层的占位率为4.3%，该占位率可直接评估三元材料中阳离子混排程度。类似的步骤可以用于锂离子电池正极材料的研发和质量控制工作。