光刻胶是微电子制造的核心材料之一，具有极高的技术壁垒，其成分配方工艺对光刻产品的性能具有重大影响。本文探索建立红外光谱定性分析光刻胶主要成分的方法，通过测试烘干光刻胶溶剂前后的红外光谱图，结合标准谱库和官能团分析等手段，可获得光刻胶中主要成分信息。该法具有分析速度快、操作简单、成本低和结果可靠等优势，可作为分析光刻胶成分的手段之一。