首页 / 行业应用 / 新能源/汽车 / 不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
2021.09.07类型: 应用报告浏览:22
离子束溅射清洁技术经常用于去除暴露在空气中的样品表面的吸附污染,亦可用于对薄膜材料的深度分析。本文使用岛津X射线光电子能谱仪(XPS)仪器配备的多模式气体团簇离子源(GCIS)氩离子枪,针对不同类型材料进行清洁/深度分析,并对比了单氩离子模式刻蚀与团簇模式刻蚀对表面元素化学态的影响。结果表明,团簇氩离子刻蚀对材料的破坏更小,能够最大程度保留样品原始信息。
相关推荐
联系岛津
产品询价 电话咨询 授权代理商 在线客服
本网站中关于产品性能、功能等信息的表述及对比范围,仅限于岛津自产和岛津合作的产品
订阅最新资讯
关注我们
扫描关注,获取最新资讯
岛津中国
医疗器械