近年来，在质量控制和研发方面，获得物质外表面的信息的需求不断增加，表面分析的重要性与日俱增。表面分析的方法有很多种，各种方法可分析的元素和分析深度存在差异，需要根据测定对象选择合适的方法。XPS（X射线光电子能谱分析法：X-ray Photoelectron Spectroscopy）是一种测量固体表面受到软X射线照射时发射的光电子能量的表面分析方法，可进行物质表面元素的定性和定量分析、化学键状态分析。XPS的分析深度为自表面10nm左右，可以获得物质外表面的化学状态信息。本报告中为您介绍使用XPS分析光学晶体上薄膜键合状态的案例。同时，为您介绍不同的分析方法所带来的元素定性、定量结果的差异。

本文参考GB 2762-2012《食品中污染物限量》标准，采用微波消解ICP-AES法测定了GBW10010大米标准样品中的镉含量。实验结果表明，镉元素线性关系及重现性良好，该方法测定快速、定量准确，测定结果与标准值吻合，方法检出限为0.006 mg/kg，完全可以满足大批量大米中镉元素限量值的测定要求。

本文介绍运用inspeXio SMX-225CT FPD HR Plus微焦点X射线CT系统观察红胶的内部结构。扫描后的CT数据处理观察有气孔和杂质，使用VG软件缺陷分析模块观察红胶孔隙及杂质的状态分布，并测量统计孔隙直径及杂质直径。