离子束溅射清洁技术经常用于去除暴露在空气中的样品表面的吸附污染，亦可用于对薄膜材料的深度分析。本文使用岛津X射线光电子能谱仪（XPS）仪器配备的多模式气体团簇离子源（GCIS）氩离子枪，针对不同类型材料进行清洁/深度分析，并对比了单氩离子模式刻蚀与团簇模式刻蚀对表面元素化学态的影响。结果表明，团簇氩离子刻蚀对材料的破坏更小，能够最大程度保留样品原始信息。

从安全性角度出发，需要严格管理药品中杂质的含量。人用药品注册技术要求国际协调会（ICH）原药杂质的相关指南和制剂杂质的相关指南当中，对于含新有效成分的药品规定了有关杂质的阈值。药品中含量在0.1%以上的杂质需要向当局报告、确定结构以及安全性。为此，药品开发、制造过程当中，微量杂质的定量是非常重要的。以下流程用于使用面积百分比测定药物中的杂质浓度。使用一定浓度的标准溶液进行分析，使主峰的高度在检测器线性的范围内。因而，若检测器的线性范围不够宽，则很难检测出低浓度杂质，为此需要分析多个不同浓度的样品。新型光电二极管阵列检测器SPD-M40可彻底排除检测时杂散光的影响，不仅具有较大的动态范围（规格值

使用空气作为替代性标准样品并在不同的进样量下制作了O2和N2的标准曲线。在0.05 μL至8 μL的范围内观察到良好的线性。在进样前使用水冲洗注射器，以在活塞外侧形成水层，这样进样量较小时也可以获得令人满意的线性。 这种标准曲线制作技术可用于气体的分析和溶于液体样品之气体的分析。