离子束溅射清洁技术经常用于去除暴露在空气中的样品表面的吸附污染，亦可用于对薄膜材料的深度分析。本文使用岛津X射线光电子能谱仪（XPS）仪器配备的多模式气体团簇离子源（GCIS）氩离子枪，针对不同类型材料进行清洁/深度分析，并对比了单氩离子模式刻蚀与团簇模式刻蚀对表面元素化学态的影响。结果表明，团簇氩离子刻蚀对材料的破坏更小，能够最大程度保留样品原始信息。

本文参考“十二五”最新环境标准《固体废物 痕量金属元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法》，采用微波消解前处理飞灰样品，ICP-AES法测定了欧洲标准物质BCR-176R（European Reference Materials (ERM)）飞灰中的多种金属元素的含量。实验结果表明，该方法线性相关系数良好r>0.99992，方法检出限低，精密度高，RSD小于2.0%，测定结果与标准值吻合，可同时测定飞灰中的多种金属元素。

近年来，在质量控制和研发方面，获得物质外表面的信息的需求不断增加，表面分析的重要性与日俱增。表面分析的方法有很多种，各种方法可分析的元素和分析深度存在差异，需要根据测定对象选择合适的方法。XPS（X射线光电子能谱分析法：X-ray Photoelectron Spectroscopy）是一种测量固体表面受到软X射线照射时发射的光电子能量的表面分析方法，可进行物质表面元素的定性和定量分析、化学键状态分析。XPS的分析深度为自表面10nm左右，可以获得物质外表面的化学状态信息。本报告中为您介绍使用XPS分析光学晶体上薄膜键合状态的案例。同时，为您介绍不同的分析方法所带来的元素定性、定量结果的差异。