Rietveld 方法是一种晶体结构分析法，根据粉末X 射线的衍射图谱，不仅能够分析单组分样品，还能对多组分样品的晶体结构进行分析。此外，因为无需使用标准曲线便可进行定量分析，应用Rietveld 方法的各种类型的分析软件被用于研究和开发以及制造过程。Match!3 软件（Crystal Impact GbR）通过比较样品的X射线衍射图谱与数据库的图谱，来进行结构成分的确定（物相鉴定）。并且，能够通过与Rietveld 分析软件的FullProf（JuanRodriguez- Carajal、Laboratoire. Léon Brillouin）协同使用来进行晶体的结构分析和定

目前欧盟REACH 法规（《关于化学品注册、评估、许可和限制制度》）中涉及到检测部分的是高关注物质（SVHC） 的检测。欧盟化学品管理署于2008 年10 月28 日正式生效第一份高关注物质清单。自从第一批SVHC 公布后，全球各大知名企业便开始高度关注，积极要求其供货合作伙伴提供产品中SVHC 物质的基本信息及具体含量，更有大客户直接将这些物质列入其产品中限制使用的物质清单中。 2010年1月至2011年6月，REACH法规逐步完善，欧盟化学品管理署依次正式公布SVHC第二批至第五批高关注物质清单。随着其中高度关注物质清单的逐步增加及颁布，意味着企业产品将面临着越来越多的挑战，企业需对高度关

二氧化硅被广泛应用于半导体等电子部件的密封材料以及涂料填料等各种领域。如果在二氧化硅中包含异常的粗颗粒（异物或凝聚物），电子零部件会发生成形不良、绝缘不良、电气性能不良，而涂料会发生涂膜强度下降、涂敷不均等现象。评价二氧化硅的尺寸主要使用激光衍射式粒度分布测定装置（以下简称LD）和扫描电子显微镜（以下简称SEM）等。但是上述设备在测试过程中也存在一些问题，例如LD检测微量粗颗粒灵敏度较低，SEM的观察视野狭窄，导致检测时间过长，无法确保足够的测量数量，而且无法获得浓度信息等等。与之相比，动态图像分析方法可以在短时间内定量获得大量的颗粒图像，因此，适用于快速进行微量粗颗粒检测和浓度评价。动态颗粒