药品残留溶剂是指在原料药或者辅料的生产过程中，以及在制剂制备过程中使用或生成的，无法在工艺过程中去除的挥发性有机物。根据残留溶剂对人体健康可能造成的危害程度，将其分为1级、2级和3级残留溶剂进行管理。虽然美国药典（USP）通则〈467〉中规定使用顶空GCFID 法（HS-GC法）对上述溶剂进行测定，但本应用报告根据ProcedureA 探讨了顶空-GC/MS 法（HS-GC/MS）。理由是如果使用HS-GC法，因为分离度不高，需要分三次测定1级、2A级和2B级残留溶剂，而采用HS-GC/MS 法不仅可以一次性完成测定，还能够获得未知峰的定性信息。

中华人民共和国国家标准GB/T 18043-2013《首饰 贵金属含量的测定 X射线荧光光谱法》。

原位分析的重要性不言而喻，可以避免仪器操作或样品处理等过程带来的不确定性。通过岛津AXIS Supra+原位UPS-XPS团簇深度剖析技术对OLED薄膜材料进行了研究，得到了材料的表面组成、功函数、HOMO能带等信息，相关信息可进一步用于材料能带结构等的研究。