地蒽酚适用于非极性高分子电离，是高分子材料和工业化学产品等方面的MALDI-MS测定中必不可少的一种基质。但是，众所周知，市售的地蒽酚中含有杂质，因此，需要研究这些杂质是否会阻碍分析目标的电离。另外，喷涂法是一种简单的基质涂抹法，缺点是基质晶体粗糙，导致MS成像的空间分辨率降低。另一方面，气相沉积法可以均匀精细地生成基质晶体，并保持较高的空间分辨率。本公司的基质升华仪iMLayer可以控制基质涂抹量和膜厚，因此具有良好的再现性，由于可根据基质设定升华温度，因此，有望减少升华温度不同的杂质混入其中。在本文中，完美将介绍旨在抑制地蒽酚杂质谱峰并提高空间分辨率的研究。

本文建立了气相色谱仪检测固定污染源废气及环境空气中非甲烷总烃（NMHC）的分析方法，分析结果表明：在此分析条件下。参考标准HJ 38-2017及HJ 604-2017，在0.5~16 μmol/mol及25-400 μmol/mol两个线性范围内，总烃及甲烷组分的线性回归系数R均大于0.999。总烃及甲烷的方法检出限分别为0.007及0.031 mgC/m3，标准对检出限要求均为0.060 mgC/m3，满足标准要求。取用浓度16 μmol/mol的标准气体重复6次测试得到总烃及甲烷的RSD都小于0.5%。

基因毒性杂质是指化合物本身直接或间接损伤细胞DNA，产生致突变和致癌的物质。基因毒性物质的特点是在很低的浓度时即可造成人体遗传物质的损伤，进而导致基因突变并可能促使肿瘤发生 。目前基因毒性列表中有1574种致癌物质，其中苯并芘、甲磺酸酯类、偶氮苯类、N-亚硝胺等物质属于高基因毒性物质。因基因毒性杂质毒性较强，对用药的安全性产生了强烈的威胁。 近年来，已上市药品中发现痕量的基因毒性杂质残留而发生大范围的医疗事故，继而被召回的案例，时有发生，给药厂造成了巨大的经济损失。 因此世界各国的法规机构都对基因毒性杂质做了明确的规定和要求。