参考国家标准《GBT 6730.62-2005 铁矿石 钙、硅、镁、钛、磷、锰、铝和钡含量的测定 波长色散X射线荧光光谱法》，商检系统标准《SNT 0832-1999进出口铁矿中铁、硅、钙、 锰、铝、钛、镁和磷的测定 波长色散X射线荧光光谱法》，利用岛津MXF-N3 Plus波长色散X射线荧光光谱仪，使用混合熔剂与铁矿石高温熔融，建立铁矿石常规元素的玻璃熔片法的分析方法，并评价了该方法的短期精度、重复性和再现性；用此方法分析铁矿石标准样品，分析结果与标准值在允许误差范围内，能满足此类样品日常检测的需要。

半导体企业生产制造过程是一个高水耗过程，且纯水水质对产品品质有至关重要的影响。为确保出水水质符合要求，制备超纯水时需对重要环节的进出水进行监测，监测指标包含总有机碳(TOC)、导电度或水阻值等。通过实时监测掌握水质变化情况，尽早发现问题并采取措施，保证生产用水的品质需求。半导体企业生产废水由有机废水、含氟废水、研磨废水、酸碱废水等混合而成，水污染物包含悬浮物、有机污染物、氨氮等，成分复杂，主要监测指标为COD/TOC、氨氮、铜、PH等。此外，半导体企业生产过程中还会排放有机废气、酸性废气、碱性废气等，包含大量挥发性有机物(VOCs)。VOCs作为我国大气污染防治联防联控的重要污染物，需对进行监

采用岛津GCMS-QP2020 NX结合ENTECH 7200大气预浓缩仪分析固定污染源废气中的65种挥发性有机物的含量，在25~200 nmol/mol浓度范围内标准曲线线性良好，相关系数均在0.995以上。连续6针标样测试RSD%范围0.3~5.0%，重复性良好。空白样品中加标浓度为50 nmol/mol时，各组分回收率83.0~125.5% 之间。该方法操作简单，定量数据准确可靠，可用于污染源废气中多组分挥发性有机物的检测。