光刻胶是微电子制造的核心材料之一，具有极高的技术壁垒，其成分配方工艺对光刻产品的性能具有重大影响。本文探索建立红外光谱定性分析光刻胶主要成分的方法，通过测试烘干光刻胶溶剂前后的红外光谱图，结合标准谱库和官能团分析等手段，可获得光刻胶中主要成分信息。该法具有分析速度快、操作简单、成本低和结果可靠等优势，可作为分析光刻胶成分的手段之一。

本文利用岛津GPC-GCMS-TQ8040三重四极杆气质联用仪建立了GPC-GC-MS/MS测定2015版 《中国药典》通则2341中规定的74种农药残留的方法。在1~50?g/L浓度范围内建立内标曲线，线性关系良好，相关系数r均大于0.995。该方法适用于2015版药典中对中药材中农药残留量的快速定量测定。

采用岛津 XRD-Evolution 与 EPMA-1720 两种仪器联合表征，XRD 分析物相组成、相含量相对变化，EPMA 则通过背散射电子图像与元素面分布，直观呈现显微组织形态及元素与物相的对应关系，两种分析手段从物相结构到微观形貌、元素分布相互印证，确保实验结果的准确性与可靠性；